ALD工藝概述

在半導體制造領域，原子層沉積(ALD)技術是實現精確薄膜沉積的關鍵工藝。原子層沉積是一種化學工藝，它通過逐步放置導電薄膜和隔離薄膜在晶片上，實現精確的薄膜沉積。這一過程對于半導體器件的性能至關重要，因為它直接影響到器件的電導性和隔離性。

1、薄膜厚度和成分的精確控制

ALD技術的一個關鍵優勢在于其能夠在亞納米尺度上精確控制膜厚，同時在高深寬比和形狀復雜的結構中展現出優異的保形性，所以要求運動控制系統必須需要非常精準的運動和速度控制以確保薄膜在整個基材臺上以及沿3D結構各處的均勻性。

2、沉積速率和吞吐量

ALD技術存在沉積速率緩慢的問題。運動控制系統需要優化以提高吞吐量，特別是在高縱橫比基板上。

3、系統穩定性和可靠性

ALD過程中的運動控制系統需要穩定可靠，以避免因系統不穩定導致的薄膜缺陷或生產效率降低。

4、安全性和環境適應性

沉積薄膜對環境變化很敏感，需要考慮長期穩定性，運動控制系統需要確保在不同環境條件下的安全和穩定。

總而言之，ALD設備的運動控制系統必須能夠精確控制力量與速度，從而避免產生質量問題，理想情況下，還可以提供實時反饋，便于監控和控制生產過程。

為什么選擇Elmo

我們為ALD工藝設備提供了創新的集成解決方案，全方位滿足對精度和速度，穩定性的需求，從而有效提升生產的效率和質量。

1、集成解決方案

Elmo提供的不僅僅是單一的運動控制產品，而是完整的集成解決方案，這包括了運動控制硬件和軟件的協同工作，以實現更佳的ALD工藝性能。采用Flying Vision技術及高效的運動序列控制，保持高吞吐量，同時確保生產過程的穩定性。

Flying Vision：這是一種“實時”目標位置校正技術，能夠確保精確的定位。

Motion Blending：通過高效的運動序列，提高生產效率。

2、可靠性

Elmo的運動控制解決方案以其高可靠性而聞名，這對于需要長時間連續運行的ALD工藝至關重要。

在全球，超過430萬臺Elmo伺服驅動器和運動控制器7/24小時連續運行，故障率極低（最大故障率：小于 7/1000），是我們穩定可靠性的有效背書。

Elmo的技術優勢不僅體現在集成解決方案和可靠性上，還包括：

l  先進的調節算法

l  超長控制帶寬

l  快速采樣率

l  快速設置

l  極高的耐用性和可靠性

l  出色的EtherCAT 性能

Elmo運動控制在半導體ALD領域的應用，不僅提升了生產效率，還確保了產品的高質量和高性能。通過我們創新的技術，Elmo公司已經成為半導體制造技術革新的領導者。

關于Elmo

埃莫(Elmo)公司總部位于以色列，在美國、中國、德國、意大利、韓國、波蘭和英國設有辦事處，是高性能運動控制技術的全球領導者。

我們提供完整的運動解決方案，設計并制造尖端伺服驅動器，基于網絡的多軸運動控制器和集成伺服電機。所有產品均可通過埃莫先進且簡單易用的世界一流軟件工具整定和配置。憑借令人贊嘆的先進技術，我們致力于推動全球的運動控制行業的發展，迄今已有數百萬臺驅動裝置運行在世界各地，從工業到航空，從半導體到激光，從機器人到無人駕駛，有效提升各行業的機器性能。自2022年起，Elmo成為博世力士樂旗下公司 。